氟化鈣晶體

用于UV/VIS/IR應(yīng)用的光學(xué)材料

多年來，Hellma Materials CaF2 一直被用作半導(dǎo)體生產(chǎn)微光刻的光學(xué)關(guān)鍵材料。CaF2 被確立為投影和照明光學(xué)中準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)材料。CaF2 的光學(xué)特性使各種高級應(yīng)用成為可能。

應(yīng)用

由于其的光學(xué)質(zhì)量和在紫外、可見分光光度計和紅外光譜范圍內(nèi)的出色透射率，Hellma Materials CaF2 可用于多種應(yīng)用：

紅外光學(xué)器件

用于天文儀器的光學(xué)元件

天基光學(xué)器件

顯微鏡光學(xué)元件

光譜光學(xué)

紫外光學(xué)

激光窗口

準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件

顯微光刻光學(xué)器件

優(yōu)勢

Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有的光學(xué)特性：

從深紫外到紅外的高寬帶透射率（130nm 至 8μm）

低折射率 （nd = 1.43384）

低光譜色散 （vd = 95.23）

準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性

合格的高能粒子和輻射耐受性

直徑可達 420mm

氟化鋇VIS/IR光學(xué)材料

Hellma Materials BaF2 在高達 12μm 的可見光和紅外光譜范圍內(nèi)具有出色的透射率。

這允許在可見光和紅外雙通道系統(tǒng)中將 BaF2 用作寬帶光學(xué)材料，用于可見光和熱成像。

BaF2 的折射率低于許多其他光學(xué)材料。這減少了由菲涅耳反射引起的傳輸損耗。

應(yīng)用

Hellma Materials BaF2 是一種出色的光學(xué)材料，適用于可見光和紅外光譜范圍的寬光譜范圍。這使得在復(fù)雜的應(yīng)用中得以利用：

集成VIS通道的熱成像和夜視

用于天文儀器的光學(xué)元件

紅外激光光學(xué)器件

用于檢測高能γ輻射>5Me的閃爍體

優(yōu)勢

Hellma Materials BaF2 是一種的光學(xué)材料：

可見光透射率高，紅外范圍擴展至12μm

低折射率 （nd = 1.47447）

低光譜色散 （vd = 81.61）

直徑可達 360 mm